Hafnium tetrachloride | Powder HFCL4 | CAS 13499-05-3 | Buhayê kargehê

Hafnium tetrachloride | Powder HFCL4 | CAS 13499-05-3 | Buhayê fabrîkeyê wêneyê nîşankirî

Danasîna kurt:

Hafnium Tetrachloride xwedan serlêdanên girîng e wekî pêşgîrek ji organîzasyona Hafnium, katalîzatorê ji bo synthetic organîk, serlêdanên navokî, û depokirina fîlimê ya qehweyî, li qadên xwe yên teknolojîk ronî dike.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Email ji me re bişînin

Kîtekîteya Hilbera

Tags Product

Danasîna hilberê

Danasîna Kurt

Navê Hilbera: Hafnium tetrachloride
CAS NO.: 13499-05-3
Formula tevlihev: HFCL4
Weight Molekul: 320.3
Xuyang: pîvaza spî

Kenivîs

Şanî	Kenivîs
Xuyabûnî	Pîvaza spî
HFCL4 + ZRCL4	9999.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Bikaranînî

Precursê Hafnium Dioksîdê: Tetrachloride Hafnium di serî de wekî pêşgîrek tête bikar anîn da ku dioksîdê Hafnium (HFO2), materyalek bi taybetmendiyên dielektrîkê yên hêja hilberîne. HFO2 bi berfirehî di serlêdanên bilind ên dielectric ji bo transistorors û kapasîteyên di pîşesaziya nîvrûker de tê bikar anîn. HFCl4 di çêkirina amûrên amûrên pêşkeftî yên pêşkeftî de ji ber şiyana wê ya ku fîlimên piçûk ên dioksîdê ya Hafnium-ê ava dike.
Katalîzatoriya synthesiya organîk: Tetrachloride Hafnium dikare ji bo reaksiyonên cuda yên organîkî, bi taybetî olefin polymerization. Taybetmendiyên wê yên Lewis Acid alîkar dikin ku navbeynkariya çalak ava bikin, bi vî rengî bertekên reaksiyonên kîmyewî baştir bikin. Ev serîlêdan di hilberîna polîmer û kompleksên din ên organîk de di pîşesaziya kîmyewî de hêja ye.
Serîlêdana nukleerê: Ji ber beşa derbasbûnê ya neutron ya bilind, Tetrachloride Hafnium bi berfirehî di serlêdanên navokî de, nemaze di kontrolkirina rûkên reaktorên nukleer de tê bikar anîn. Hafnium dikare bi bandorek neutron bike, ji ber vê yekê ew materyalek maqûl e ji bo birêkûpêkkirina pêvajoya fision, ku ji bo baştirkirina ewlehî û kargêriya nifşê nukleerî ye.
Depoya fîlimê ya nerm: Tetrachloride Hafnium di depoyên kîmyewî de (CVD) tê bikar anîn da ku fîlimên hûrikên hûrgulî yên materyalên hafnium bikin. Van fîlimê di nav cûrbecûr serlêdanan de, di nav de microelectronics, optics, û kincên parastinê jî girîng in. Qebûlkirina şiyana yekalî, fîlimên kalîteyê yên bilind hfcl4 di pêvajoyên çêkirina pêşkeftî de hêja dike.